PICVD

PICVD

Plasma Impulse Chemical Vapor Deposition (PICVD) は、アウアーライティングが開発した独自のコーティング技術です。プラズマインパルスとCVDプロセスを融合し、様々な用途に応じたコーティングを提供します。

  • 無機材 (ガラス、ガラスセラミック, セラミック、金属) と有機材 (プラスチック) の基盤にコーティングが可能です。また、基板形状も3D 形状、平板の内側、外側を問わずコーティングが可能です。
  • フィルター、ミラー、装飾または機能性を付加したコーティグ

基板材質とコーティング材料

Coating Materials
Silicon dioxide
Titanium dioxide
Zirconium dioxide
Yttrium oxide
Tin oxide
Substrates
Glass
Ceramic
Aluminum
Plastics (PC, PEI, PEEK, PET)
 

特徴

  • コーティングプロセスの効率化により高いコスト競争力
  • 個々の基盤を独立してコーティングすることで高い歩留率を達成
  • 高信頼性
  • クリーンルームの外でコーティングが可能
  • オートメーションプロセス

例: LED照明の標準的なアルミニウムコーティングを、様々な面で凌ぐ高反射率PICVDコーティング