PICVD

PICVD

等离子脉冲化学气相沉积法 (PICVD) 是由 Auer Lighting 傲尔照明开发的独特技术。CVD 过程与等离子体脉冲的结合开拓了一系列的应用:

  • 可镀膜于无机材质 如:玻璃、微晶玻璃、陶瓷、金属和有机物(塑料)
  • 可镀膜于各种内表面和外表面
  • 也可镀膜于平面或三维形状的基板
  • 滤光片,反射镜,功能性和装饰性膜层

镀膜材料和基材选择

镀膜材料
氧化硅
氧化钛
氧化铬
氧化钇
氧化锡
基材
玻璃
陶瓷
塑料 (PC, PEI, PEEK, PET)
 

镀膜能力

  • 高速镀膜,成本效率高
  • 单个镀膜,高产量
  • 可靠的过程
  • 无需在洁净房内清洗
  • 全自动化

例如:LED 应用中高反射的 PICVD 膜层和标准铝膜层的比较