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Reaktives Sputtern

Reaktives Sputtern

Das bei Auer Lighting verwendete MicroDyn® Verfahren kombiniert das gepulste DC Sputtern mit einer räumlich separierten Oxidation in einem Sauerstoffplasma. So werden voll durchoxidierte, äußerst absorptionsarme, dielektrische Schichten erzeugt, die eine Vielzahl von Anwendungen erlauben. Um gezielt beschichtungsfreie Zonen zu realisieren, stehen ausgereifte Verfahren zur Maskierung bereit, die Kantengenauigkeiten besser 50 µm erlauben.

Beschichtungsmaterialien und Substrate

Beschichtungsmaterialien
Siliziumoxid
Nioboxid
Zirkonoxid
Titanoxid
Tantaloxid
Hafniumoxid
Eisenoxid
Substrate
Technisches Glas
Optisches Glas
Keramik
Kunststoffe (PC)
Aluminium
 
 

Vorteile des MicroDyn® Prozesses

  • Beschichtung unterschiedlichster Trägermaterialien
  • Temperaturbeständigkeit bis zu 1.200 °C
  • Hervorragende Reflexionsgrade von 95% bis 99%
  • Spektralkantengenauigkeit von ± 1 nm
  • Hohe Reproduzierbarkeit
  • Keine Farbverschiebung während der Lebensdauer der Anwendung
  • Multifunktionale Schichtdesigns
  • Auf Wunsch mit Maskierung und Strukturierung

Anwendungsbereiche

  • Farbfilter
  • AR-Schichten
  • UV-Schutzschichten
  • Spiegel
  • Strahlteiler